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更新日期:2024-03-19
簡要描述:
日本tsubosaka紫外線曝光機(jī)UVL-2光刻工藝中的簡單曝光印刷設(shè)備臺式和一體式,節(jié)省空間通過安裝微型計算機(jī)來精確控制照射時間
日本tsubosaka紫外線曝光機(jī)UVL-2
日本tsubosaka紫外線曝光機(jī)UVL-2
規(guī)格
模型 | UVL-2 |
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光源 | 超高壓汞燈 |
強(qiáng)度[mW /?] | 20 |
光通量 | 100 x 100(有效的80 x 80) |
照度不均勻度[±%] | 8 |
曝光時間 | 0.5 --99.9 |
樣品架 | 固定型帶平面微調(diào)機(jī)構(gòu) |
樣品尺寸[mm x mm] | 100 x 100 |
尺寸[mm x mm] | 70 x 70 |
樣品固定 | 塞子鄰接方法 |
通訊接口 | RS-232C |
電源電壓 | AC100V 50/60赫茲 |
消耗功率[VA] | 700 |
操作環(huán)境 | ?溫度:5-35 [℃] ?濕度:80 [%]以下但是,不得結(jié)露。 |
尺寸(寬x高x深)[mm] | 350 x 790 x 350 |