單晶圓晶圓清洗過程中波紋管泵的排出壓力不穩(wěn)定如何解決
我負責半導體晶圓清洗工藝的設備。目前,我們正在做單晶圓晶圓清洗。
到目前為止,我們一直使用的波紋管泵在清洗噴嘴之間切換時不能很好地跟隨壓力波動。結(jié)果,排放壓力不穩(wěn)定,清洗效果不一致。有什么好的方法可以解決這個問題嗎?
推薦使用無需阻尼器即可實現(xiàn)低脈動運轉(zhuǎn)的“低脈動波紋管泵FLP-60W"!
對于這種情況,推薦磐城的“低脈動波紋管泵FLP-60W"!只要使用阻尼器,我認為很難提高跟蹤性能。
在這方面,“低脈動波紋管泵FLP-60W"憑借其機構無需阻尼器即可低脈動運行,具有高負載跟隨性。因此,實現(xiàn)了排放量和排放壓力的穩(wěn)定運行。
此外,由于往復泵*的慣性阻力小,與現(xiàn)有泵相比(與本公司相比),排出量和排出壓力增加。
憑借適合單晶圓工藝的出色負載跟隨性實現(xiàn)穩(wěn)定運行。氣動低脈動波紋管泵FLP系列
PULSERASER
• 無需阻尼器即可實現(xiàn)低脈動和節(jié)省空間
• 通過波紋管焊接結(jié)構防止液體泄漏的安全設計
©2024 秋山科技(東莞)有限公司() 版權所有 總訪問量:342895 sitemap.xml
地址:東莞市塘廈鎮(zhèn)塘廈大道298號603室 技術支持:環(huán)保在線 管理登陸 備案號:粵ICP備20060244號