TEM、SEM、X射線分析等碳膜形成設備的碳膜沉積設備介紹

發(fā)布日期：2022-03-29      瀏覽次數：1181

TEM、SEM、X射線分析等碳膜形成設備的碳膜沉積設備介紹



三臺設備合二為一



該設備有兩個獨立的腔室，每個腔室都具有碳氣相沉積、磁控濺射和親水處理功能。一臺設備配備了我們的 VC-100S、MSP-1S、PIB-10 和 3 種型號的性能。兩個排氣管系統(tǒng)由外部旋轉泵的排氣切換。
此外，每個腔室可以獨立進行真空排氣和大氣釋放，腔室可以保持真空。

采用

TEM、SEM、X射線分析等碳膜形成設備的碳膜沉積設備。它用于防止樹脂包埋樣品的充電。

離子濺射
SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜設備。應用貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產生的效率。除了通過磁控管靶電極進行低壓放電外，樣品臺制成浮動式，以減少由于電子束流入造成的樣品損壞。

親水處理
用于透射電鏡的網格網、膠棉支撐膜、碳支撐膜、其他金剛石刀具等的親水處理，以及油漬的清洗。
用交流放電產生的等離子體離子照射樣品表面。它破壞樣品表面的化學鍵并形成官能團。因此，活化的樣品表面與水分子之間的化學鍵得到促進，變成親水的。
此外，通過破壞油漬等化學鍵，可以獲得去除污漬的效果。
照射強度（軟/硬）可以切換。